X光測(cè)厚儀XD-1000

X光測(cè)厚儀XD-1000性能優(yōu)勢(shì)

可靠性高：

由于測(cè)試過(guò)程無(wú)人為因素干擾，儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以，其測(cè)量的可靠性更高。

滿足不同需求：

測(cè)試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件，操作方便、功能*，軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài)，設(shè)定儀器參數(shù)，并就有多種*分析方法，工作曲線制作方法靈活多樣，方便滿足不同客戶不同樣品的測(cè)試需要。

快速：

1分鐘就可以測(cè)定樣品鍍層的厚度，并達(dá)到測(cè)量精度要求。

無(wú)損：

測(cè)試前后，樣品無(wú)任何形式的變化。

直觀：

實(shí)時(shí)譜圖，可直觀顯示產(chǎn)品測(cè)試點(diǎn)

簡(jiǎn)易：

對(duì)人員技術(shù)要求較低，操作簡(jiǎn)單方便,并且維護(hù)簡(jiǎn)單方便。

性價(jià)比高：

相比其他類類儀器，X光測(cè)厚儀在總體使用成本上有優(yōu)勢(shì)的，可以讓更多的企業(yè)和接受。

X光測(cè)厚儀XD-1000 技術(shù)參數(shù)

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型

多變量非線性回收程序

長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性高

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃

元素分析范圍從硫（S）到鈾（U）中間的任意金屬鍍層

一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層

薄可測(cè)試0.005μm

分析含量一般為2ppm到99.9%

鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）

任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源

儀器尺寸：576（W） x 495 （D） x 545（H） mm